株式会社BBIN视讯-娱乐游戏官网（社长：Toshikazu Umatate，， ，，，东京都港区）推出了ArF液浸式扫描光刻机NSR-S625E。。。。。。。 由于提高了产量和装备运行的稳固性，， ，，，NSR-S625E实现了BBIN视讯-娱乐游戏官网半导体光刻装备历史上最高的生产效率，， ，，，可为种种半导体器件的高效生产做出孝顺。。。。。。。
发售概况
| 商品名 | ArF液浸式扫描光刻机NSR-S625E |
| 发售时间 | 2024年2月 |
开发配景
随着应用的多样化和半导体需求的增多，， ，，，客户对半导体曝光系统的要求也变得越来越重大和细密。。。。。。。BBIN视讯-娱乐游戏官网坚持通过”伴走”运动，， ，，，为客户提供量身定制的解决计划。。。。。。。为了知足客户日益多样化的需求，， ，，，BBIN视讯-娱乐游戏官网决议通过开发ArF液浸式扫描光刻机NSR-S625E而扩大其光刻机产品规模。。。。。。。
新开发的NSR-S625E是在市场上有着10年销售史的NSR-S622D后继机。。。。。。。它提供相比约莫1.3倍的产出量，， ，，，大大改善了运行稳固性，， ，，，别的还配有iAS*1，， ，，，助力于种种半导体的高效生产。。。。。。。
BBIN视讯-娱乐游戏官网将继续通过一直提供适合客户需求的曝光装备，， ，，，为高附加价值的半导体制做作出孝顺。。。。。。。
※1 inline Alignment Station的缩写。。。。。。。 在不降低曝光系统产出的情形下，， ，，，实现高速、高精度的晶圆丈量和网格变形校正的系统。。。。。。。
主要性能
| Resolution | 区分率 | ≦38 nm |
| NA | NA | 1.35 |
| Exposure light source | 曝光光源 | ArF excimer laser (193 nm wavelength) |
| Reduction ratio | 缩小倍率 | 1:4 |
| Maximum exposure field | 最大曝光规模 | 26 mm x 33 mm |
| Overlay | 重合精度 | SMO※2:≦1.7 nm、MMO※3:≦2.5 nm |
| Throughput | 产出 | ≧280 wafers/hour (96 shots) |
*1 Single Machine Overlay ：统一型号机械之间的重合精度（例 NSR-S625E#1 to S625E#1）
*2 Mix and Match Overlay ：统一机型之间的重合精度（例 NSR-S625E#1 to S625E#2）
